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電子科学株式会社
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咨询内容必填	请参考下方的填写示例，在您了解的范围内进行填写。
填写示例1 填写示例2 填写示例3 【样品】 例：Si衬底上的ALD-Al₂O₃薄膜 【样品尺寸】 例：直径300mm×　0.775mm 　　ALD-Al₂O₃膜的厚度　10nm 【样品的颜色】 例：基板呈现普通硅晶圆的颜色、 　　膜呈无色透明状。 【分析目的】 例： ALD-Al₂O₃膜中水分含量的测定 【想要了解的燃气种类】 例：H₂O、氢(H2)、氧气(O2) 【加热条件】 例：加热温度范围　RT～800 ℃ 　　升温速率　60℃/min 【样本数量】 例：5サンプル示例 【样品处理注意事项等（可选） 】 例：フ由于是使用大尺寸晶圆寄送， 　　请贵公司帮忙剪裁。 【样品】 例：玻璃基板上的氧化物半导体膜 　　（IGZO膜） 【样品尺寸】 例：10 mm × 10 mm × 0.5mm 　　IGZO膜的厚度　50nm 【試料の色】 例：基板、膜 ともに無色透明。 【分析目的】 例：①IGZO膜に含まれる水素、水の評価。 　　②酸素(O2)、Znが検出されるか。 【知りたいガス種】 例：H₂ 、H₂O、酸素(O2)、Zn 【加熱条件】 例：加热温度范围　RT～600 ℃ 　　升温速率　30℃/min 【样本数量】 例：10サンプル 【样品处理注意事项等（可选）】 例：由于难以区分样品的正反面， 　　已在背面（玻璃基板侧）标注了“×”形刻线。 【样品】 例：碳粉 【样品尺寸】 例：平均粒径 100nm 【样品的颜色】 例：黑色 【分析目的】 例：①表面官能团的定性与定量。 　　②边缘氢的定量分析 【想要了解的燃气种类】 例：H₂、CO、CO2 【加热条件】 例：加熱温度範囲　RT～1700 ℃ 　　升温速率　30℃/min 【样本数量】 例：2样本数量
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关于样品处理	・样品在分析完成后，原则上将予以退还。 ・升温脱附分析（TDS）属于伴随加热的破坏性分析，因此样品在测量过程中可能会发生变化。 ・根据样品种类及测量条件的不同，可能因挥发等原因导致难以回收样品。