가열 탈착 분석이란

일정한 속도로 고체 표면의 온도를 상승시키면서, 탈리되는 화학 종에 의한 압력 변화나 탈리 화학 종의 양 변화를 측정함으로써, 고체 표면의 흡착 화학 종을 동정하거나, 흡착량 및 흡착 상태, 표면에서의 탈리 과정 등에 대한 정보를 얻는 방법.

가열 속도를 제어하면서 측정하므로 TPD(temperature programmed desorption)라고도 한다.

지지체 금속 촉매와 같은 고체 분말 시료의 표면 흡착 상태 연구에도 사용되지만, 단결정 표면의 흡착 상태를 연구하는 데 있어 유력한 방법이다.

탈착 화학 종의 동정이나 탈착량의 측정에는 4극자 질량 분석기가 자주 사용된다.

온도에 따른 탈리 분자종의 순서를 얻을 수 있으며, 이를 가열 탈리 스펙트럼(thermal desorption spectrum)이라고 한다.
가열 속도는 10²~10³K/s의 순간 탈리(flash desorption)부터 일반적인 10~10^-2K/s까지의 넓은 범위에 이른다.

가열 탈착 스펙트럼의 형태나 가열 속도를 변경했을 때의 스펙트럼 형태 변화를 분석함으로써, 흡착 상태에 관해 많은 지식을 얻을 수 있다.

※주식회사 이와나미 서점 이화학 사전 제5판 643페이지 799항 가열 탈착법에서 인용.
또한, 게재에 관해 2000년 7월에 게재 허가를 받았습니다. 감사합니다.

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